Teoretyczna ocena wspolczynnika odbicia w cienkich warstwach AL/SiO2 Szamocin

Poprawa właściwości optycznych materiału, takich jak reflektancja, wiąże się ze złożonym poszukiwaniem optymalnych parametrów eksperymentalnych w procesie ich otrzymywania. Wykorzystanie oprogramowania obliczeniowego do symulacji procesów wzrostu cienkich warstw stanowi istotną korzyść ze względu na brak zależności od rzeczywistego systemu, jak również możliwość zbadania szerszego zakresu występujących wielkości fizycznych. Ponadto, istnieje potrzeba w przemyśle motoryzacyjnym, Varroc Lighting Systems© otrzymał zadanie poprawy współczynnika odbicia reflektorów aluminiowych, więc przeprowadziliśmy rozwój, przy użyciu oprogramowania NASCAM®, które wykorzystuje metodę kinetyczną Monte Carlo do opracowania modelu układu fizycznego, który ma być badany w skali nanometrycznej, pozwoli nam to na analizę wpływu różnych wielkości, które mogą wpływać na współczynnik odbicia materiału.