Filtr Hybrydowy 3w1 K&F 72 mm 72mm Fader ND2-32 + CPL + Black Diffusion 1/4 / KF01.2926V2 Płoty

Autoryzowany Partner K&F Concept Jako Fourplay_pl (Fotopoker_pl) jesteśmy oficjalnym partnerem marki K&F Concept. Kupując u nas, zyskujesz: 100% oryginał – produkty pochodzą z oficjalnej dystrybucji K&F Concept. Ochrona producenta – szybka i bezproblemowa obsługa reklamacyjna. Zaawansowana jakość optyczna – filtry i akcesoria K&F Concept cenione są przez fotografów i filmowców na całym świecie. Nowoczesne technologie – dostęp do najnowszych serii (m.in. Nano-X, Nano-K, filtry magnetyczne, systemy ND VND). Bezpieczne zakupy – pewne pochodzenie, kompletne fabryczne opakowanie oraz pełna specyfikacja producenta. Doradztwo ekspertów – pomożemy dobrać odpowiedni filtr, adapter, statyw lub akcesoria do Twojego sprzętu. Filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm Filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm to hybrydowe rozwiązanie 3 w 1, które łączy funkcję filtra szarego o zmiennej gęstości, polaryzacyjnego oraz dyfuzyjnego. Jeden modyfikator pozwala kontrolować ekspozycję, eliminować refleksy i uzyskać subtelny, filmowy efekt poświaty. Japońskie szkło optyczne AGC gwarantuje najwyższą jakość obrazu, a 28-warstwowa powłoka Nano-X MRC chroni przed wodą, kurzem i zarysowaniami. Smukła aluminiowa ramka zapobiega winietowaniu, a precyzyjna regulacja zapewnia płynną pracę bez efektu „X”. W zestawie znajdziesz eleganckie etui z magnetycznym zamknięciem i ściereczkę z mikrofibry pakowaną próżniowo. To idealny wybór dla fotografów i filmowców szukających niezawodnego narzędzia do kreatywnej pracy w każdych warunkach. Główne cechy produktu wysokiej jakości hybrydowy filtr fotograficzny 3 w 1 kompatybilny z obiektywami o średnicy gwintu 72 milimetrów (mm) łączy filtr polaryzacyjny, ND2–32 i Black Mist 1/4 w jednej konstrukcji japońskie szkło optyczne AGC o wyjątkowej przejrzystości i trwałości 28-warstwowa powłoka Nano-X MRC o właściwościach hydrofobowych smukła aluminiowa ramka zapobiegająca winietowaniu umożliwia redukcję ekspozycji w zakresie 1–5 działek przysłony eliminuje refleksy i odblaski z wody, szkła i metalowych powierzchni tworzy miękkie, filmowe rozmycie i subtelny efekt poświaty zapobiega prześwietleniom i poprawia kontrast obrazu zwiększa nasycenie kolorów i głębię scen fotograficznych brak efektu czarnego „X” przy ogniskowych powyżej 35 mm odporność na wodę, kurz, tłuszcz i zarysowania wysoka transmisja światła i wierne odwzorowanie kolorów precyzyjna regulacja obrotu z samoblokującym pierścieniem żłobiony pierścień ułatwiający montaż i regulację precyzyjna obróbka CNC gwarantująca idealne spasowanie lekka i trwała konstrukcja z aluminium lotniczego eleganckie etui ze skóropodobnego materiału z magnetycznym zamknięciem miękkie wnętrze etui chroniące filtr przed zarysowaniami boczny pasek w etui umożliwiający łatwe wyjęcie filtra próżniowo pakowana ściereczka z mikrofibry do czyszczenia szkła idealny zestaw do fotografii plenerowej i pracy w terenie Hybrydowa konstrukcja: 3 filtry w 1 Filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm to jedno z najbardziej innowacyjnych rozwiązań w swojej klasie. Łączy trzy technologie: regulowany filtr ND, który kontroluje ekspozycję, filtr polaryzacyjny CPL eliminujący odbicia oraz filtr dyfuzyjny Black Mist 1/4, który dodaje kadrom miękkości i subtelnej poświaty. Dzięki temu otrzymujesz ogromny zakres możliwości – od pracy w ostrym słońcu po filmowe portrety z magiczną aurą. Ten jeden filtr otworzy przed Tobą zupełnie nowe przestrzenie kreatywne! Precyzyjna kontrola ekspozycji Dzięki regulowanemu zakresowi wartości ND filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm umożliwia precyzyjne sterowanie ilością światła wpadającego do obiektywu. Możesz wydłużać czas naświetlania lub szerzej otwierać przysłonę, bez ryzyka prześwietleń. Zakres od 1 do 5 działek przysłony (ND2-32) daje pełną swobodę w fotografii krajobrazowej, portretowej i filmowej. Obracając pierścień z delikatnym oporem, ustawiasz dokładnie taki poziom redukcji, jakiego potrzebujesz, bez efektu ciemnego krzyża „X”, typowego dla niektórych filtrów konkurencyjnych marek. Efekt Black Mist – miękki obraz i filmowy klimat Zintegrowany filtr dyfuzyjny Black Mist 1/4 delikatnie rozprasza światło, łagodząc kontrasty i nadając scenom subtelny, kinowy klimat. To rozwiązanie, które idealnie sprawdza się w portretach – wygładza skórę, ukrywa drobne niedoskonałości i podkreśla naturalne piękno twarzy. Efekt przypomina obraz z klasycznej taśmy filmowej – miękki, nastrojowy i pełen emocji. To doskonały sposób na uzyskanie wyjątkowego charakteru zdjęć bez konieczności używania dodatkowych efektów w postprodukcji. Skuteczna eliminacja odblasków Model K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm oferuje również wbudowany filtr polaryzacyjny. Dzięki niemu skutecznie pozbędziesz się niepożądanych refleksów i odbić światła od powierzchni takich jak szkło, woda czy metal. Dzięki temu Twoje zdjęcia zyskają na głębi, a kolory staną się bardziej nasycone i naturalne. Filtr CPL jest nieocenionym wsparciem w fotografii krajobrazowej – podkreśla błękit nieba, wydobywa zieleń liści i zapewnia klarowność obrazu w nawet najbardziej wymagających warunkach oświetleniowych. Zaawansowana powłoka Nano-X MRC Filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm został pokryty 28-warstwową powłoką MRC (ang. Multi Resistant Coating), która zwiększa transmisję światła, minimalizuje odblaski i zabezpiecza powierzchnię szkła przed wodą, kurzem, tłuszczem i zarysowaniami. Dzięki hydrofobowym właściwościom krople wody i pył łatwo spływają z powierzchni filtra, co pozwala utrzymać go w idealnej czystości nawet w trudnych warunkach plenerowych. To ochrona długowieczności i niezawodnej jakości obrazu. Japońskie szkło optyczne AGC Sercem filtra K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm jest wysokiej klasy szkło optyczne AGC importowane z Japonii. Charakteryzuje się wyjątkową przezroczystością i odpornością na zarysowania. W połączeniu z precyzyjną obróbką CNC zapewnia perfekcyjną transmisję światła i neutralne odwzorowanie barw. To rozwiązanie, które cenią profesjonaliści na całym świecie – gwarantuje obraz pozbawiony zniekształceń i aberracji, zachowując najwyższą ostrość detali. Smukła i trwała konstrukcja W filtrze K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm zastosowano cienką ramkę wykonaną z aluminium lotniczego. Smukła obudowa pozwala uniknąć efektu winietowania nawet przy szerokokątnych obiektywach. Żłobienia na powierzchni pierścienia ułatwiają montaż i demontaż filtra, również w rękawiczkach. Solidna konstrukcja zapewnia odporność na odkształcenia. Jej lekkość z pewnością docenią twórcy działający w terenie i filmowcy pracujący w ruchu. Etui klasy premium Filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm dostarczany jest w eleganckim, usztywnionym etui wykonanym ze skóropodobnego materiału o przyjemnej w dotyku fakturze. Wnętrze wyściełano miękkim materiałem, który skutecznie chroni szkło przed zarysowaniami i wstrząsami, a magnetyczne zamknięcie ułatwia szybki dostęp. Praktyczny boczny uchwyt umożliwia wygodne wysunięcie filtra bez dotykania jego powierzchni, co chroni go przed odciskami palców. W zestawie znajduje się również wysokiej jakości ściereczka z mikrofibry, pakowana próżniowo – kompaktowa, higieniczna i idealna w podróży. Kompatybilność obiektywy z gwintem filtrowym o średnicy 72 mm Specyfikacja model: K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm typ filtra: 3 w 1 (ND2–32, CPL, Black Mist 1/4) materiały: aluminium lotnicze japońskie szkło optyczne AGC powłoka: Nano-X MRC (28 warstw) redukcja ekspozycji: 1–5 stopni redukcja ilości światła: ND2–32 efekt dyfuzji: Black Mist 1/4 średnica filtra: Ø72 mm Zawartość zestawu filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 - 72 mm etui z magnetycznym zamknięciem ściereczka z mikrofibry Postaw na jakość K&F Concept Wybierz sprawdzone filtry, statywy i akcesoria fotograficzne, którym ufają twórcy na całym świecie.