Filtr UV Nano-X MRC K&F CONCEPT do FujiFilm X100 X100S X100V X100F X100VI / KF01.2703 Działoszyn

Filtr Ultrafioletowy UV NANO-X MRC Dedykowany do aparatów FujiFilm: X100VI X100V X100F X100T X100S X100 FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI Filtr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazu Kolory pozostają naturalne i wyraźne Filtr redukuje mgłę, która może występować na morzu lub w górach Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła 28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych Filtr jest wodoodporny i odporny na zarysowania Pierścień wykonany z aluminium, wyposażony we wzór trapezowy, który ułatwia montaż i demontaż filtra Przednia rama filtra jest magnetyczna i można ją łączyć z magnetycznymi filtrami K&F CONCEPT o średnicy 52 mm Na filtrze można zamocować również osłonę firmy K&F CONCEPT dedykowaną do systemu (dostępną również w naszej ofercie) W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra Produkt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych MODEL: KF01.2703 / UV MRC Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania. Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne. Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia. Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi. Cechy filtra K&F UV NANO-X MRC Wyprodukowany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9% Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM Doskonały stosunek jakości do ceny Filtr pasuje m.in do następujących aparatów FujiFilm X100VI X100V X100F X100T X100S X100 Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń Filtr wykazuje właściwości wodoodporne Przednia rama filtra jest magnetyczna i można ją łączyć z magnetycznymi filtrami K&F CONCEPT o średnicy 52 mm Na filtrze można zamocować również osłonę firmy K&F CONCEPT dedykowaną do systemu (dostępną osobno w naszej ofercie) W zestawie 1x filtr UV 1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtra Przykładowe zastosowanie filtra K&F CONCEPT NANO-X MRC Uwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.