K&F CONCEPT KF01.1222 (67 mm) Brzeszcze

Produkt nowy, w oryginalnym opakowaniu. Filtr Polaryzacyjny CPL NANO-X PRO MRC Rozmiar filtra: 67mm FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła NANO-X PRO MRC - Nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronne Super niski profil typu SLIM (jedyne 5mm grubości) Bardzo solidna i wytrzymała obudowa aluminiowa Magnalium W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra MODEL: KF01.1222 / 67mm Nano X CPL Produkt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych. Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry polaryzacyjne CPL. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania. Filtr posiada aż kilkanaście nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne. Filtr polaryzacyjny to idealny dodatek szczególnie dla fotografii krajobrazowej. Filtr polaryzacyjny zwiększa kontrast zdjęć i nasycenie kolorów. Filtr CPL eliminuje odblaski i odbicia nie tylko z powierzchni szklanych, ale też metalicznych. Dzięki temu istnieje możliwość wykonywania np. zdjęć przez szybę. Filtr polaryzacyjny CPL przepuszcza jedynie światło o polaryzacji liniowej w wybranym kierunku. W wyniku tego filtr częściowo pochłania światło rozproszone w atmosferze, co widać szczególnie w przypadku fotografowania nieba, które staje się ciemniejsze, przy jednoczesnym zachowaniu białego koloru chmur. Filtr CPL umożliwia również znaczną poprawę nasycenia barw powierzchni nieprzezroczystych (np. zieleni roślin) oraz redukcję odbić od powierzchni przezroczystych (np. tafli wody lub szyby). Cechy filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9% Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć. Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń. Doskonały stosunek jakości do ceny. Filtr CPL NANO-X PRO MRC jest dedykowany do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 67mm. Filtr pasuje m.in do aparatów posiadających następujące modele obiektywów Canon EF-S 17-85mm f/4-5.6 IS USM EF-S 18-135mm f/3.5-5.6 IS EF-S 18-135mm f/3.5-5.6 IS STM EF 35mm f/2 IS USM EF 100mm f/2.8L Macro IS USM EF 70-200mm f/4L IS USM EF 70-200mm f/4L USM EF 70-300mm f/4-5.6L IS USM Nikon 16-85 mm f/3,5-5,6G ED VR AF-S DX NIKKOR 18-70 mm f3,5-4,5G ED-IF AF-S DX Zoom NIKKOR AF-S DX NIKKOR 18-105 mm f/3,5-5,6G ED VR 18-135 mm f/3,5-5,6 ED-IF AF-S DX NIKKOR AF-S DX NIKKOR 18-105 mm f/3,5-5,6G ED VR AF-S NIKKOR 28 mm f/1,8G AF-S NIKKOR 35 mm f/1,4G AF-S NIKKOR 85 mm f/1,8G AF-S NIKKOR 70-200mm f/4G ED VR 70-300 mm f/4,5-5,6G AF-S VR NIKKOR Sony SAL-2875 SEL-P18200 SEL-18200 SEL-18200LE Tamron AF 17-50mm F/2,8 XR Di II LD Aspherical AF 28-75mm F/2,8 XR Di LD Aspherical [IF] Makro AF 28-300mm F/3.5-6.3 XR Di VC LD Asferyczny [IF] Makro Panasonic LEICA D VARIO-ELMAR 14-50mm / F3.8-5.6 ASPH./ MEGA O.I.S. Lumix G VARIO 100-300mm F4.0-5.6 MEGA O.I.S Olympus ZUIKO DIGITAL 14-54mm 1:2.8-3.5 II ZUIKO DIGITAL ED 50-200mm 1:2.8-3.5 SWD Sigma 18-50 F2.8-4.5 DC OS HSM 35 F1.4 DG HSM SPECYFIKACJA FILTRA Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego Dwustronnie powlekane 18-warstwową powłoką (NANO-X PRO MRC) szkło optyczne Ochronna powłoka hydrofobowa, anty-olejowa, przeciwpyłowa, przeciw-zabrudzeniowa, odporna na zarysowania. Nie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralny Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 5mm Bardzo solidna i wytrzymała obudowa aluminiowa Magnalium Brak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUS Solidne pudełko ochronne na filtr w zestawie Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 5mm Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń Przykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X PRO MRC Uwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.